Page 28 - 清流雙月刊 NO.40

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氖氣是在晶圓製程時以雷射進行曝光作業的必要原料。 台積電在 7 奈米以下的製程能做到以極紫外光的曝光設備
進行量產，對氖氣的需求可以明顯減少。（Source: ASML,
https://www.asml.com/en/products/euv-lithography-systems）

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且主要取得來源也並非俄烏兩國。所以， EUV）的曝光設備進行量產， 對氖氣的需
至少在短期內，國內晶圓的生產不會受到 求可以明顯減少。政府在這方面可以考慮
俄烏衝突的影響，但企業和政府皆必須以 提供彈性補貼措施，針對 8 奈米以上的製

戰爭長期化之最壞劇本來提早準備。 程，提供我國晶圓業者合理的氖氣採購費
用或是儲存費用的補貼。
鑑於氖氣的使用是在晶圓製程中以雷
射進行曝光時的必要原料，而用量的估算
及早因應，防範未然
以一瓶 40 升來看，約可使用至少 1 個月
以上。台積電等製造業者除了維繫安全存 俄烏戰爭的不確定性因素越來越多，

量外，可嘗試優化曝光期間氣體填充的效 諸多交易品項的供貨量和取得成本將持續
率，削減氖氣實際用量；此外，多數晶圓 波動。慮及歐美國家可能對俄羅斯普丁

製造業者是以深紫外光（deep-ultraviolet （Putin）政府施加進一步的經濟制裁，各
photolithography, DUV）的曝光設備進 國企業應針對自身商品供應鏈在衝突期間

行生產，過程中氖氣的需求量較大， 而 的風險暴露性，做最壞劇本的調適與因應
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台積電在 7 奈米以下的製程可以做到以極 評估，如此方可以較低損失的方式維繫中

紫外光（extreme ultraviolet lithography, 長期營運。

7 Vladimir Galabov and Manoj Sukumaran, “Why the cloud and data center industry should worry about a potential war in Ukraine,” OMDIA
(February 14, 2022), via at: https://omdia.tech.informa.com/OM022339/Why-the-cloud-and-data-center-industry-should-worry-about-a-potential-
war-in-Ukraine
8 台灣積體電路製造股份有限公司，《7 奈米製程》，https://www.tsmc.com/chinese/dedicatedFoundry/technology/logic/l_7nm。

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